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光切法顯微鏡

簡(jiǎn)要描述:9J光切法顯微鏡具有相同頻率及振動(dòng)方向和恒定相位差的光線,在空間疊加會(huì)發(fā)生干涉現(xiàn)象,這就是光波的干涉原理。利用光波的干涉原理和顯微鏡非接觸檢測(cè)特點(diǎn)對(duì)試樣表面上高度極微小差別進(jìn)行測(cè)量。

  • 更新日期:2025-03-17
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品牌上海測(cè)維價(jià)格區(qū)間面議
產(chǎn)地類(lèi)別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域化工,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車(chē)及零部件,綜合

9J光切法顯微鏡依據(jù)所測(cè)光潔度▽3-▽9/0.8-80um為光切法顯微鏡,▽10-▽14/1-0.03um為干涉顯微鏡。用于測(cè)量零件表面刻線,鍍層深度等,配以特殊的附件還能測(cè)量顆粒加工紋路面,低反射率的工件表面,可將儀器倒置在工件上

9J光切法顯微鏡主要技術(shù)規(guī)格:

1、測(cè)量表面光潔度范:▽3-▽9(相當(dāng)不平度0.8-80um)

2、表面光潔度(級(jí)別):9、8-7、6-5、4-3

3、所需物鏡:60倍N.A.0.55、30倍N.A.0.40、14倍N.A.0.20、7倍N.A.0.12

4、總放大倍數(shù):510X、260X、120X、60X

5、物鏡組件工作距離(mm):0.04、0.2、2.5、9.5

6、視場(chǎng)(mm):0.3、0.6、1.3、2.5

7、不平寬度:用測(cè)微目鏡:0.7微米~2.5毫米,用座標(biāo)工作臺(tái):(0.01~13)毫米

8、儀器重量約: 23公斤








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